| 規 格：1900*600*600 |
型 號：JNYQ-O-15Ex |
數 量：7896 |
| 品 牌：聚能 |
包 裝：木箱包裝 |
價 格：面議 |
原位激光氣體分析儀（氧氣、一氧化碳等） 1、儀器概述
JNYQ-O-15Ex型探頭式半導體激光氣體分析儀，是基于半導體激光吸收系列光譜技術（TDLAS）的高性能產品。主要應用在煤氣回收分析、干熄焦循環氣體分析、高爐噴煤氣體分析、轉爐煤氣回收、焦爐煤氣電捕焦后工藝氣體分析、工業過程氣體分析、生物發酵、食品行業、環保監測等行業，系統采用隔爆式設計，可工作在防爆場所。詳情請聯系：賈維浩
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壹捌柒捌玖肆貳玖玖玖壹 JNYQ-O-15Ex型激光氣體分析儀探頭式系列分析儀具有安裝簡便、維護簡單、維護周期長、可靠性高、適應性強等特點。 激光氣體分析儀系統基于國際領先的半導體激光吸收光譜技術（TDLAS），即“單線光譜”測量技術。系統采用可調制的半導體激光器為發光光源，通過調制半導體激光器的工作電流強度來調制激光頻率，使激光掃描范圍略大于被測氣體的單吸收譜線。從而使半導體激光器發射的特定波長的激光束在穿過測量管時，被被測氣體選頻吸收，從而導致激光強度產生衰減。于是系統利用不同氣體成分均有不同的特征吸收譜線及氣體濃度和紅外或激光吸收光譜之間存在的Beer-Lambert關系，通過檢測吸收譜線的吸收大小（即激光強度衰減信息）就可以獲得被測氣體的濃度。 但不同的是，傳統非分光紅外分析技術使用譜寬很寬且固定波長的紅外光源，而TDLAS技術使用譜寬非常小(也就是單色性非常好) 且波長可調諧的半導體激光器作為光源。因此，TDLAS技術具有傳統非分光紅外分析技術無法實現的一些性能優點。 不受背景氣體交叉干擾 半導體激光器發射的激光譜寬小于0.0001nm，是紅外光源譜寬的1/106，遠小于紅外光源譜寬和被測氣體單吸收譜線寬度，其頻率調制掃描范圍也僅包含被測氣體單吸收譜線（半導體激光吸收光譜技術也因此被稱為單線光譜技術），因此成功消除了背景氣體交叉干擾影響。詳情請聯系：賈維浩
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壹捌柒捌玖肆貳玖玖玖壹 不受被測氣體環境參數變化干擾 被測氣體環境參數—溫度或壓力變化通常導致譜線強度和展寬發生變化，對溫度或壓力信號不加修正就會影響測量結果。而TDLAS技術是對被測氣體單一吸收譜線進行分析，因此可較容易地對溫度、壓力效應進行修正。為此系統內置了溫度和壓力自動修正功能，能根據實際測量得到的被測氣體溫度和壓力對氣體成分測量值進行自動修正，從而可實現精確的在線氣體分析。 綜上所述，單線光譜技術、激光波長掃描技術和環境參數自動修正技術使TDLAS技術可以被用于實現氣體的在線分析，因此比非分光紅外等傳統采樣氣體分析系統具備更強的環境適應性。詳情請聯系：賈維浩
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壹捌柒捌玖肆貳玖玖玖壹 JNYQ-O-15Ex型激光氣體分析儀主要功能模塊是由發射單元和接收單元構成（見下圖）。發射單元主要實現驅動半導體激光器發射激光，發射出的激光穿過被測環境，由接收單元進行光電轉換、信號處理、對光譜數據進行分析，獲得測量結果。 JNYQ-O-15Ex型激光氣體分析儀采用原位安裝形式，發射單元和接收單元通過連接單元直接安裝在過程管道上，連接單元由吹掃接口、光路調整結構、根部閥門和安裝法蘭等組成。 該單元包括半導體激光器、準直光學系統、驅動電路板和溫控電路板。激光器被調制到特定的波長和頻率，使其能夠進行氣體檢測。在對發射單元進行清潔或其他維護時，機械連接法蘭中的根部閥門可起到隔絕過程管道和操作環境，防止危險氣體泄漏的作用，發射單元外觀見下圖。詳情請聯系：賈維浩
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壹捌柒捌玖肆貳玖玖玖壹 接收單元通過機械連接法蘭與測量管道連接，該單元包括光電傳感器、透鏡、接收主板、傳感器板和顯示板。透鏡將準直激光聚焦于光電傳感器上，然后探測的光信號被轉化為電信號進行處理后，檢測到二次諧波信號信息，再將二次諧波信息轉化為濃度信息，并將濃度信息在接收端OLED屏上顯示，接收單元外觀見下圖。 在測量場合較為惡劣的條件下，為了能夠保證JNYQ-O-15Ex型激光氣體分析儀能夠長期連續運行，JNYQ-O-15Ex型激光氣體分析儀需使用吹掃氣體對發射單元和接收單元上的光學窗片進行吹掃，避免測量環境中粉塵或其它污染物對光學窗片造成嚴重污染而影響測量。JNYQ-O-15Ex型激光氣體分析儀的吹掃單元由過濾器、減壓閥和穩流裝置等組成，可為JNYQ-O-15Ex型激光氣體分析儀的吹掃氣體提供穩定流量的吹掃氣源。 吹掃單元不僅為發射單元和接收單元提供吹掃氣源，它還是具有一個128×64的 OLED 屏和按鍵，可以顯示氧濃度，以及對分析儀參數進行修改；還可以輸出模擬信號、報警信號和通訊等。詳情請聯系：賈維浩
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